TRIPS第三十八条对保护期进行了详细规定，1、在要求将注册作为保护条件的成员中，布图设计保护期不得少于从注册申请的提交日起、或从该设计于世界任何地方首次付诸商业利用起10年。2、在不要求将注册作为保护条件的成员中，布图设计保护期不得少于从该设计于世界任何地方首次付诸商业利用起10年。3、无论上述第1款、第2款如何规定，成员均可将保护期规定为布图设计创作完成起15年。

　　我国《集成电路布图设计保护条例》第十二条规定，布图设计专有权的保护期为１０年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起１５年后，不再受本条例保护。